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 Profil Fraunhofer IMS (1,4 MB)


 Jahresbericht 2008 Fraunhofer IMS (2MB)
 Jahresbericht 2007 Fraunhofer IMS (15MB)
 Jahresbericht 2006 Fraunhofer IMS (2MB)
 Jahresbericht 2005 Fraunhofer IMS (7MB)
 Jahresbericht 2004 Fraunhofer IMS (5MB)
 Jahresbericht 2003 Fraunhofer IMS (3MB)

Profil des Instituts

Das Fraunhofer IMS besteht als eigenständiges Institut der Fraunhofer-Gesellschaft seit Mitte 1984, bezog das hierfür errichtete Institutsgebäude 1987, das entsprechend der steigenden Anforderungen 1992, 2001 und 2005 baulich erweitert wurde. Gründung und Aufbau erfolgten unter dem langjährigen Institutsleiter Prof. Dr. Günter Zimmer; seit dem 01.01.2006 hat Herr Prof. Dr. Anton Grabmaier die Leitung unseres Instituts übernommen.

 

Gemäß dem Leitbild der Fraunhofer-Gesellschaft führen wir im Fraunhofer IMS Forschung, Entwicklung und Pilotfertigung mikroelektronischer Lösungen für Anwender aus Wirtschaft und Gesellschaft durch. Zweites Standbein sind Auftraggeber aus der Halbleiterindustrie.

 

Im Strategieprozess haben wir folgende 8 Geschäftsfelder identifiziert:

Pressure Sensor Systems

CMOS-Imager

Wireless & Transponder Systems

ASICs

Ambient Intelligence Systems

Devices & Technology

IR-Imager

Biohybrid Systems






 

Diese Geschäftsfelder werden von folgenden Kernkompetenzen unterstützt:

HW-Design

SW-Design

ASIC-Design

Process Development




Ertragsschwerpunkte sind gegenwärtig die Geschäftsfelder „ASICs“ und „Devices & Technology“.

 

Steigerungen haben wir angedacht durch Ausbau und Entwicklung der Geschäftsfelder, die bisher unterproportional am Umsatz beteiligt sind. Dabei soll das Geschäft zunehmend in Richtung komplexerer Systemintegration und Anwendungen wachsen.


Qualitätsmanagement

Das Fraunhofer IMS ist seit 1995 nach DIN EN ISO 9001 zertifiziert; seit Herbst 2001 nach DIN EN ISO 9001:2000. Die Gültigkeit erstreckt sich auf die Bereiche Forschung, Entwicklung, Herstellung und Vertrieb mikroelektronischer Schaltungen, elektronischer Systeme, Mikrosysteme und Sensoren sowie Beratung auf diesen Gebieten. Die CMOS-Fertigungslinie ist darüber hinaus seit 2006 zertifiziert nach ISO/TS16949.






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